國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)能實(shí)現(xiàn)多少nm工藝制程？據(jù)專家介紹，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)90nm工藝技術(shù)與荷蘭ASML光刻機(jī)7nm工藝技術(shù)至少有15年的差距。制造工藝上的差距主要反映了與西方發(fā)達(dá)國(guó)家在精密制造領(lǐng)域的差距。光刻機(jī)的格局

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)能實(shí)現(xiàn)多少nm工藝制程？

據(jù)專家介紹，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)90nm工藝技術(shù)與荷蘭ASML光刻機(jī)7nm工藝技術(shù)至少有15年的差距。制造工藝上的差距主要反映了與西方發(fā)達(dá)國(guó)家在精密制造領(lǐng)域的差距。

光刻機(jī)的格局目前，光刻機(jī)市場(chǎng)幾乎被荷蘭ASML、日本尼康、佳能、上海微電子所壟斷。它分為三個(gè)梯隊(duì)。荷蘭ASML壟斷高端光刻機(jī)市場(chǎng)份額，日本尼康、佳能處于中端市場(chǎng)，同時(shí)爭(zhēng)奪低端市場(chǎng)，上海微電子只有低端市場(chǎng)。

上海微電子成立于2002年。在成立之初，它訪問了荷蘭的ASML，并被嘲笑說 "即使所有的圖紙和零件都給了你，你也不能把它們組裝起來(lái)。自力更生之后，上海微電子只是打了外企的臉。2007年，90納米制程工藝的光刻機(jī)研制成功。

世界與。;美國(guó)最先進(jìn)的光刻機(jī)制造商是荷蘭的ASML，只有荷蘭的ASML能生產(chǎn)7納米EUV光刻機(jī)。mainland China的晶圓代工廠SMIC，大多使用ASML的高端光刻機(jī)，已經(jīng)量產(chǎn)14nm工藝芯片，突破了N 1和N 2工藝，但后續(xù)的先進(jìn)工藝技術(shù)仍然需要EUV光刻機(jī)。SMIC早在2018年就成功預(yù)訂了《瓦森納協(xié)定》，這些頂級(jí)部件是對(duì)禁運(yùn)的。

上海微電子是一個(gè)系統(tǒng)集成商，它不 t自己生產(chǎn)關(guān)鍵部件，所以它 制造22納米以下的高端光刻機(jī)不是它的責(zé)任。消息稱，上海微電子已突破28nm制程工藝關(guān)鍵技術(shù)。但由于供應(yīng)鏈的影響，量產(chǎn)時(shí)間尚未確定。

就目前情況來(lái)看，只能做好低端領(lǐng)域，慢慢培育國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈，逐步向高端光刻機(jī)領(lǐng)域發(fā)展。

如果你認(rèn)為它 對(duì)你有幫助的，可以多表?yè)P(yáng)，也可以隨意關(guān)注。謝謝你。

【quartus】原理圖輸入設(shè)計(jì)詳解攻略？

在這里，默認(rèn)情況下，您已經(jīng)構(gòu)建了一個(gè)新項(xiàng)目。點(diǎn)擊[File]菜單下的[New],打開用戶設(shè)計(jì)和建立向?qū)?，在[New]中選擇[Design files]-[Block diagram/原理圖文件]進(jìn)行原理圖文件輸入。

建立原理圖設(shè)計(jì)文件

呼叫參數(shù)數(shù)字化元件，在繪圖區(qū)域雙擊鼠標(biāo)左鍵打開添加符號(hào)元件的窗口。

調(diào)用輸入端口 "輸入和輸出和邏輯器件 "74138和分別是。

繪圖控制操作，使用縮放工具按鈕后，請(qǐng)切換回按鈕(選擇和畫線工具)來(lái)編輯繪圖。

從符號(hào)庫(kù)中調(diào)出需要的輸入輸出端口，整齊排列。

完成畫線連接操作(鼠標(biāo)放在端點(diǎn)時(shí)，會(huì)自動(dòng)捕捉，按下左鍵拖動(dòng)到目標(biāo)，松開后完成一次畫線操作)。

鼠標(biāo)左鍵雙擊端口名稱，如電路74138的Y7N端子所示，直接輸入自定義名稱。74138邏輯測(cè)試電路原理圖設(shè)計(jì)！

在下拉菜單[處理]中選擇[開始編譯],開始整個(gè)編譯。

編寫全過程分析報(bào)告；

選擇處理/開始編譯，自動(dòng)完成分析、調(diào)試、綜合、改編、匯編、時(shí)序分析的全過程。

在編譯期間，錯(cuò)誤消息由下面的信息欄(紅色字體)指示。雙擊此信息以定位錯(cuò)誤，糾正錯(cuò)誤并在此編譯，直到所有錯(cuò)誤都被消除。

編譯成功后，會(huì)彈出編譯報(bào)告，顯示相關(guān)編譯信息。

QuartusII的編譯器由一系列處理模塊組成；這些模塊負(fù)責(zé)錯(cuò)誤檢測(cè)、邏輯綜合、結(jié)構(gòu)綜合、輸出結(jié)果的編輯和配置以及設(shè)計(jì)項(xiàng)目的時(shí)序分析；

在此過程中，設(shè)計(jì)項(xiàng)目適應(yīng)FPGA/CPLD目標(biāo)器件，同時(shí)生成多用途輸出文件，如功能和時(shí)序信息文件、器件編程目標(biāo)文件等。

編譯器首先檢查出工程設(shè)計(jì)文件中可能存在的錯(cuò)誤信息，供設(shè)計(jì)者排除，然后生成用結(jié)構(gòu)化網(wǎng)表文件表示的電路原理圖文件；

工程編制完成后，可以通過時(shí)序仿真分析設(shè)計(jì)結(jié)果是否滿足設(shè)計(jì)要求；創(chuàng)建波形向量文件

添加一個(gè)固定節(jié)點(diǎn)，然后選擇菜單視圖-實(shí)用程序窗口-節(jié)點(diǎn)查找器。

選擇 "引腳:未分配 "在“過濾器”下，然后單擊 "列表和列出引腳端口。

在找到的節(jié)點(diǎn)下的列表中選擇列出的端口，并將其拖放到波形文件的引腳編輯區(qū)域。

設(shè)置模擬時(shí)間長(zhǎng)度，并選擇菜單[編輯]-[結(jié)束時(shí)間]命令。默認(rèn)值為1us，這里設(shè)置為100us。

設(shè)置模擬時(shí)間段，并選擇菜單[Edit]-[Grid size …]命令。默認(rèn)值為10ns。由于競(jìng)爭(zhēng)冒險(xiǎn)的存在，仿真時(shí)信號(hào)波形和大量毛刺混在一起，影響了仿真結(jié)果。因此，這里設(shè)置為500ns。

編輯輸入端口信號(hào)，并使用窗口縮放(左鍵縮放，右鍵縮放)將波形縮放到適當(dāng)?shù)某潭取?/p>

開始時(shí)序模擬，在在【處理】下拉菜單中選擇【開始仿真】，分析波形可見，與74LS138功能真值表一致，結(jié)果正確。