世界上能獨(dú)立制造光刻機(jī)的有誰？低端光刻機(jī)也可以獨(dú)立制造出，主流的不能不能！雖然在性價(jià)比高光刻機(jī)領(lǐng)域覆雨翻云，但只占據(jù)核心技術(shù)的10%，其他90%的核心器件都不知從何而來歐、美、日、韓等國家和地區(qū)的知名

世界上能獨(dú)立制造光刻機(jī)的有誰？

低端光刻機(jī)也可以獨(dú)立制造出，主流的不能不能！

雖然在性價(jià)比高光刻機(jī)領(lǐng)域覆雨翻云，但只占據(jù)核心技術(shù)的10%，其他90%的核心器件都不知從何而來歐、美、日、韓等國家和地區(qū)的知名企業(yè)。也就是說，極紫外光刻機(jī)集成主板了該領(lǐng)域世界更高、精、尖的技術(shù)，阿斯麥公司只不過是“站在眾人肩膀上”參與獨(dú)立顯卡創(chuàng)新。

阿斯麥公司生產(chǎn)的產(chǎn)品的極紫外光刻機(jī)，它的光源和控制軟件無論是美國，超精密機(jī)械及蔡司鏡頭依附德國，特殊的方法復(fù)合材料和光學(xué)器材技術(shù)充斥日本，軸承和閥件由瑞典和法國提供給。目前，只有美國英特爾、臺(tái)積電、韓國三星等3家公司，可建議使用該光刻機(jī)能完成7納米、5納米半導(dǎo)體工藝制造。

極紫外光刻機(jī)工作原理？

是用極紫外激光在線路板上刻出線路。

深紫外光刻機(jī)是多少納米？

193納米。深紫外光刻機(jī)應(yīng)該是指光源波長為深紫外光的光刻機(jī)，深紫外光本身是200-350納米，而正常情況對(duì)光刻機(jī)來說深紫外光是指193納米的duv光刻機(jī)。深紫外光光刻機(jī)如果不是是干式的，可以不高壓縮到157納米，如果是侵潤式的是可以壓縮到134納米，正常情況所說的的28納米指的是光刻機(jī)分辨率并不是光源波長。

上海微電子不是早就有90納米光刻機(jī)了嗎？

上微的這款干式光刻機(jī)型號(hào)是SSA600/20，極高支持90納米工藝節(jié)點(diǎn)。

而如果不是要能制造28納米及以下工藝，那就必須要會(huì)用到浸沒式DUV光刻機(jī)，所謂的的突破就是指的這個(gè)，但目前尚缺驗(yàn)證驗(yàn)證機(jī)。

深紫外光刻機(jī)和極紫外光刻機(jī)？

深紫外光刻機(jī)DUV，級(jí)紫外光刻機(jī)EUV。

紫外線在400納米（nm）以下至1納米（nm）。深紫外線光刻機(jī)建議使用193納米（nm）紫外線，極紫外線光刻機(jī)建議使用13.5納米（nm）紫外光。

目前能生產(chǎn)的產(chǎn)品EUV光刻機(jī)的只能荷蘭asml一家公司。

duv光刻機(jī)使用壽命？

十年。

一臺(tái)光刻機(jī)的壽命也不只是本質(zhì)一兩代芯片，如果沒有用193nm深紫外光刻機(jī)也是可以可以做到10nm乃至于7nm芯片的生產(chǎn)的，只不過工藝難度實(shí)現(xiàn)方法起來要比古怪，成本較高，.例如采用自對(duì)準(zhǔn)八次成型后技術(shù)，就可以能夠得到非常玻璃狀的結(jié)構(gòu)，但因?yàn)樾酒瑢蛹?jí)的工藝變地奇怪，是需要一些掩模版和材料，所以才用193nm光刻機(jī)生產(chǎn)7nm芯片非常不劃得來，所以到了這個(gè)程度可以上EUV光刻機(jī)。