002169光刻機屬于什么水平？“002169智光電氣投資粵芯半導(dǎo)體是A股市場最崇高的投資”。智光電氣還在互動平臺上來表示，粵芯半導(dǎo)體一期以90nm-130nm技術(shù)產(chǎn)品為主兼顧，二期以65nm-90n

002169光刻機屬于什么水平？

“002169智光電氣投資粵芯半導(dǎo)體是A股市場最崇高的投資”。

智光電氣還在互動平臺上來表示，粵芯半導(dǎo)體一期以90nm-130nm技術(shù)產(chǎn)品為主兼顧，二期以65nm-90nm技術(shù)產(chǎn)品為主兼顧。

90nm-180nm、65nm-90nm不屬于什么水平呢？

必須要所了解幫一下忙芯片的:CPU指的是在生產(chǎn)CPU過程中，要加工各種電路和電子元件，可以制造兩根導(dǎo)線各個元器件等?，F(xiàn)在其生產(chǎn)的精度以納米（以前用微米）來它表示，精度越高，生產(chǎn)工藝越先進(jìn)科學(xué)。在同時的材料中可以吸納更多的電子元件，連接線也越細(xì)，有利于能提高CPU的集成度。制造工藝的納米數(shù)是指IC內(nèi)電路與電路之間的距離。制造工藝的趨勢是向密密麻麻的度愈高的方向反展，密度愈高的IC電路設(shè)計，換句話說在則是大小面積的IC中，也可以具備密度更高、功能更奇怪的電路設(shè)計。微電子技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步，主要注意是靠工藝技術(shù)的不斷改進(jìn)。

芯片制造工藝從1971年開始，情況了10微米、6微米、3微米、1.5微米、1微米、800納米、600納米、350納米、250納米、180納米、130納米、90納米、65納米、45納米、32納米、22納米、14納米、10納米，一直經(jīng)濟(jì)的發(fā)展到目前(2019年）比較新的7納米，而5納米將是下一代CPU的發(fā)展目標(biāo)。

可見是什么水平？？中中吧?。。∽銎胀ǖ匦酒模。?！

據(jù)報道，粵芯半導(dǎo)體不僅僅是國內(nèi)第一座以虛擬物品IDM(Virtual IDM)為營運策略的12英寸芯片廠，確實是廣州第一條12英寸芯片生產(chǎn)線，目前已被所列廣東省、廣州市重點項目。該項目于2018年3月開始回填，2018年10月按原計劃能完成主廠房50元。據(jù)粵芯官網(wǎng)可以介紹，粵芯半導(dǎo)體項目投資70億元，剛建廠房及配套設(shè)施共占地20畝14萬平方米。建起達(dá)產(chǎn)后，粵芯半導(dǎo)體將實現(xiàn)月產(chǎn)40,000片12英寸晶圓的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品除開微處理器、電源管理芯片、模擬芯片、功率分立器件等，柯西-黎曼方程物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、人工智能、5G等創(chuàng)新應(yīng)用的模擬芯片需求。

中國的光刻機技術(shù)和荷蘭的光刻機技術(shù)，關(guān)鍵點的區(qū)別到底在哪？

一、體現(xiàn)出來在表像的是精度

提及光刻機，大家喜歡和芯片制造對應(yīng)出聲，比如說制造出7nm芯片的光刻機，制造出14nm的光刻機等等。

目前最強的量產(chǎn)中的光刻機是應(yīng)用于90nm的芯片的制造，而ASML量產(chǎn)中的主要是用于5nm芯片的制造的，這中間有多少差距，可能一般人還不大清楚。

用時間來說，最起碼10年，如果沒有用再用芯片制造的精度來看，中間有65nm，45nm，32nm，22nm，14nm，10nm，7nm，5nm。多少代，大家三年就很清楚了，這可是實實在在的差距。

二、實際中是裝配工藝、經(jīng)驗、人才的差距

而在相差數(shù)這么多遠(yuǎn)的背后，也不知差的是什么？反正是裝配工藝、人才、經(jīng)驗的差距。

網(wǎng)上曾廣泛流傳一句說，ASML說即使公開圖紙，別人也造不出差不多的光刻機出去，這段話話背后的底氣在哪里？

1、裝配工藝，光刻機中裝配零件是非常重要的，說得不好聽的一點，那就是組裝技術(shù)，ASML的原件99確實是采購人員的，但只能它也能裝配零件得這么好，別人都再不行。

2、而裝配工藝的差距，應(yīng)該是人才、經(jīng)驗的差距，僅有好的人才、幾十的經(jīng)驗，才能夠讓裝配工藝增加，達(dá)到能夠的頂階水平。