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UG12.0中創(chuàng)建IC芯片模型

在UG軟件中,可以通過以下步驟來創(chuàng)建IC芯片模型。 步驟1:創(chuàng)建草圖 在建模模式中選用創(chuàng)建草圖,在XY面上繪制一個規(guī)格為5x3.5的矩形,并確保矩形的中心在坐標(biāo)原點處。接下來,在矩形的右上角距離長

在UG軟件中,可以通過以下步驟來創(chuàng)建IC芯片模型。

步驟1:創(chuàng)建草圖

在建模模式中選用創(chuàng)建草圖,在XY面上繪制一個規(guī)格為5x3.5的矩形,并確保矩形的中心在坐標(biāo)原點處。接下來,在矩形的右上角距離長邊和寬邊都為0.3的位置上,繪制一個直徑為0.3的圓。

步驟2:拉伸和拔模

使用拉伸命令,設(shè)定開始值為0,結(jié)束值為0.75,布爾為無。然后使用拔模命令,設(shè)置脫模方向為Z軸,固定面為模型的底部,要拔模的面為模型的四個側(cè)面,拔模角度為5度。

步驟3:再次拉伸

再次使用拉伸命令,選擇以YZ面平行且相距2.4的位置作為草圖平面。在草圖中從模型的最大輪廓點處繪制一條長為0.75的直線,然后使用一條長為1的垂直線與之連接,最后使用一條長為0.3的直線與長為1的直線垂直連接。

步驟4:倒圓角

回到拉伸對話框,設(shè)定開始值為0,結(jié)束值為0.5,布爾為無。同時設(shè)置偏置為兩側(cè),開始為0.05,結(jié)束為-0.05。完成拉伸后,使用倒圓角命令,在實體的折彎處添加倒半徑為0.1的圓角。

步驟5:陣列復(fù)制

使用陣列幾何特征命令,選中上一步得到的實體,選擇線性方式進行陣列復(fù)制,設(shè)置數(shù)量為4,跨度為4.3。

步驟6:鏡像

使用鏡像命令,將第五步得到的4個陣列對象進行鏡像復(fù)制。選擇鏡像平面為XZ面,使得坐標(biāo)的另一面也具有相應(yīng)的特征。同樣地,使用鏡像命令將第二步得到的模型鏡像到XY的另一面,這樣就得到了完整的IC芯片體。

步驟7:添加細節(jié)

最后,在IC芯片體的上端面上使用投影曲線命令,將第一步草圖中的直徑為0.3的圓投影上去。然后,使用球體命令,以中心點和直徑的方式創(chuàng)建一個直徑為0.3的圓球,其中心點位于直徑0.3的圓心上,并將其減去。至此,IC芯片模型創(chuàng)建完畢。

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